Couches minces

Le service « Couches Minces et Interfaces » a pour mission d’élaborer et de caractériser des matériaux en couches minces (à haute densité d’interfaces ou non) pour les membres de l’Institut ou les demandes extérieures.

Multicouches sur substrat AlN

Ces technologies confèrent aux matériaux ainsi obtenus des fonctionnalités et des propriétés chimiques, physiques et mécaniques diversifiées selon l’ingénierie qui a présidé à leur fabrication. L’étude des conditions de couplage entre matériaux permet la mise en évidence et compréhension des phénomènes de couplages, en particulier des effets thermomécaniques, thermochimiques, mécano chimiques…, ainsi que la conception de zones interfaciales assurant la compatibilité entre composants mise en œuvre d’interphases.

Ce service est équipé :

 Pour l’élaboration :

– Pulvérisation cathodique radiofréquence réactive ou non,
– Pulvérisation cathodique DC pulsé (HIPIMS)
– Évaporation au canon à électrons : ou assistée par plasma réactif (RPAE) /ou par faisceau d’ions (IBAD) / ou source atomique
– CVD thermique, CVD plasma RF
– Recuits sous atmosphère ultra pure, RTA
– Préparation cibles

Dépôt diamant sur substrat WC-Co et interface TaN

 Pour la caractérisation :
– Profilométrie mécanique et optique confocale.  

Membres du service : Dominique Michau (IR) / Lionel Teulé-Gay (IR)

Appareillages	Échantillons
M400	Plasma Ar-oxygène
Profilomètre optique	Pulvérisation cible Fe
Profilomètre mécanique	Équipement & Présentation